集成电路布图设计保护条例 2026-08-03

中华人民共和国国务院令:第842号

《集成电路布图设计保护条例》已经2026年7月10日国务院第91次常务会议修订通过,现予公布,自2026年10月15日起施行。

总理李强:2026年7月23日

集成电路:布图设计

保护条例:第一章总则

第一条

第二条

第三条

本条例下列用语的含义:

第四条

第五条

第六条

第七条

第八条

第九条

第十条:第二章布图设计专有权

第十一条

布图设计权利人享有下列专有权:

第十二条

未经登记的布图设计不受本条例保护。

第十三条:第十四条

第十五条:第十六条

第十七条:第十八条

第三章布图设计的登记

第十九条:第二十条

第二十一条:第二十二条

申请布图设计登记,应当提交:

(一)布图设计登记申请表;

(二)布图设计的复制件或者图样;

(三)布图设计的独创性声明;

(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

第二十三条:第二十四条

第二十五条:第二十六条

第二十七条:第二十八条

第二十九条:第三十条

第三十一条:第三十二条

第三十三条

当事人因不可抗拒的事由延误本条例规定的期限或者国务院知识产权行政部门指定的期限,导致其权利丧失的,自障碍消除之日起2个月内且自期限届满之日起2年内,可以向国务院知识产权行政部门说明理由并附具有关证明文件,请求恢复其权利。

除前款规定的情形外,当事人因其他正当理由延误本条例规定的期限或者国务院知识产权行政部门指定的期限,导致其权利丧失的,可以自收到国务院知识产权行政部门的通知之日起2个月内向国务院知识产权行政部门说明理由,请求恢复其权利;但是,延误复审请求期限的,可以自复审请求期限届满之日起2个月内向国务院知识产权行政部门请求恢复其权利。

当事人请求延长国务院知识产权行政部门指定的期限的,应当在期限届满前,向国务院知识产权行政部门说明理由并办理有关手续。

第四章布图设计专有权的行使

第三十四条:第三十五条

中国自然人、法人或者非法人组织向外国人、外国企业或者外国其他组织

来源: 桂林市-政府门户
产业标签 半导体长征
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